2月23日消息，三星在官網宣布，投資60億美元(約合人民幣380億)在韓國華城（Hwaseong）興建新的半導體工廠，用于擴充7nm EUV的產能 。
該工廠已經破土動工，2019年下半年竣工，2020年之前投產。
據悉，光刻機最核心的元件就是紫外光源，目前常見的是ArF（氟化氬），但在7nm時代，必須由波長更短的DUV（深紫外）和EUV（極紫外）進行更精細的繪制工藝 。
有趣的是，三星在22號剛剛宣布和高通在5G移動芯片時代達成合作，后者的驍龍芯片將使用前者的7nm打造。
三星將把EUV設備使用在7nm LPP（Low Power Plus）節(jié)點上，產品涵蓋手機、服務器、網絡設備、高性能數據中心等。
資料顯示，三星在韓國還有位于Giheung（京畿道器興）、Pyeongtaek（平澤）的半導體工廠，海外工廠則有兩座，分別位于美國德州的奧斯汀和中國的西安。
2017年，三星在半導體事業(yè)中的投資達到了260億美元，創(chuàng)下歷史新高，這主要得益于其存儲芯片的巨大需求。
鳥瞰華城工廠，圖片來自三星官網
