半導體金剛石研磨液
產(chǎn)品詳情：
金剛石多晶研磨液利用多晶金剛石良好的韌性，在研磨拋光過程中能夠保持高磨削力的同時不易產(chǎn)生劃傷。
可供規(guī)格：
單 位 | ?！《?/span> | 介 質(zhì) | ||||
微米（um） | 0.5 | 1 | 2 | 3 | 4 | 水性/中性/油性 |
5 | 6 | 7 | 8 | 9 | ||
納米（Nm） | 30 | 50 | 100 | 125 | 150 | 水性/中性/油性 |
200 | 250 | 300 | ||||
應用領域：
1、藍寶石加工：藍寶石襯底、LED芯片、窗口片、表鏡片、TEL指紋識別片、TEL攝像頭鏡片等藍寶石材料研磨或拋光。
2、金屬加工：不銹鋼、鋁件、銅件、模具鋼、TELLogo、TEL中框、TEL卡槽、TEL按鍵、TEL背板、醫(yī)療器械件、模具等超硬合金金屬材料研磨或拋光。
3、陶瓷加工：氧化鋯陶瓷異型件、陶瓷珠、陶瓷盤、氮化鋁基板、陶瓷插芯、TEL陶瓷蓋板、陶瓷指紋件、手表陶瓷結(jié)構件、陶瓷套筒等陶瓷材料研磨或拋光。
4、半導體加工：硅片、鍺、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、氮化鎵等半導體材料研磨或拋光。
5、紅外晶體加工：激光晶體、磁光晶體、閃爍晶體、雙折射晶體、非線性光學晶體等晶體材料研磨拋光；硒化鋅、鍺、硅、硫化鋅、氟化鈣、氟化鎂、鈮酸鋰、碳酸鋰、硫系紅外等紅外材料研磨或拋光。
注意事項：
1、請使用前先搖勻；
2、在使用時，可用少量蒸餾水加以稀釋，建議原液使用效果更佳；
3、根據(jù)客戶工藝需求可選擇適合粒度，及介質(zhì)調(diào)整。
儲存方式：
本品需在0-5℃以上儲存，防止結(jié)冰，在零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。
包裝規(guī)格：
500ML/瓶，5L/桶。
